사염화 규소(SiCl4)를 산수소염으로 가공 분해, 용융.
불순물, 기포, 이물질이 거의 없어 진공 자외선~적외선 영역의 폭넓은 파장 영역에서 뛰어난 광 투과성을 가집니다.
또한 균질성, 엑시머 내성 등을 높인 그레이드도 라인업 되어 있습니다.
액정 패널 제조용 마스크 기판 재료를 비롯해 각종 투과 기판 재료, 엑시머 레이저, 스테퍼의 렌즈, 그 밖의 각종 렌즈, 프리즘, 거울, 창판 등 다양한 용도로 사용됩니다.

사염화 규소(SiCl4)를 원료로 하며 VAD법으로 제조. OH기 농도를 제어한 합성 석영 유리로 용도에 따라 유수 ED-H와 무수 ED-C을 선택할 수 있습니다.
ED-H는 진공 자외선 영역의 광 투과율이 매우 뛰어나기 때문에 레이저용 렌즈재, 거울, 창재 등의 다양한 광학 용도에 사용되며 내열성이 뛰어나 초고순도가 필요한 반도체 제조 장치의 노심관, 지그 등에도 사용됩니다.
ED-C는 적외선, 원적외선 영역의 광 투과율이 좋아 적외선 영역에서의 렌즈재, 창재 등에 사용됩니다.