ES Series ESシリーズ
四塩化ケイ素(SiCl4)を酸水素炎にて加水分解・溶融。
不純物、泡・異物を殆ど含まず、真空紫外~赤外領域の幅広い波長領域で優れた光透過性を有しています。また、均質性、エキシマ耐性等を高めたグレードもラインナップしています。
液晶パネル製造用マスク基板材料を初めとする各種透過基板材料、エキシマレーザー、ステッパーのレンズ、その他各種レンズ、プリズム、ミラー、窓板等、様々な用途に使用されています。
東ソー・エスジーエムでは、幅広い品揃えと長年培ってきた技術によりあらゆるニーズに対応が可能です。
当社の石英ガラスは大きく分けて溶融石英ガラスと合成石英ガラスとがあり、それぞれが使用目的に応じてさらに細かなグレードに細分化されております。
四塩化ケイ素(SiCl4)を酸水素炎にて加水分解・溶融。
不純物、泡・異物を殆ど含まず、真空紫外~赤外領域の幅広い波長領域で優れた光透過性を有しています。また、均質性、エキシマ耐性等を高めたグレードもラインナップしています。
液晶パネル製造用マスク基板材料を初めとする各種透過基板材料、エキシマレーザー、ステッパーのレンズ、その他各種レンズ、プリズム、ミラー、窓板等、様々な用途に使用されています。
| グレード | 特徴 |
|---|---|
| ES | 汎用光学向け大型材料 |
| ESL-1 | 1方向脈理フリー |
| ESL-1000 | 1方向脈理フリー、エキシマレーザー対応 |
| ESL-2 | 3方向脈理フリー |
| ESL-2000 | 3方向脈理フリー、エキシマレーザー対応 |
四塩化ケイ素(SiCl4)を原料とし、VAD法により製造。OH基濃度を制御した合成石英ガラスで用途により有水のED-Hと無水のED-Cの選択が可能です。
ED-Hは、真空紫外領域での光透過率が極めて良好であるため、レーザー用レンズ材、ミラー、窓材として様々な光学用途に用いられ、また、耐熱性に優れるため、超高純度を要求される半導体製造装置の炉心管、治具等にも用いられています。ED-Cは、赤外、遠赤外領域での光透過率が良好であり、赤外領域でのレンズ材、窓材等に用いられています。
| グレード | 特徴 |
|---|---|
| ED-H | 3方向脈理フリーの有水グレード |
| ED-C | 完全無水グレード(OH基濃度<1ppm) |